चित्र:Masqueur electronique.GIF
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सारांश
| विवरण | "Masqueur électronique", developped nearby 1970 by Jacques Trotel, Thomson-CSF. It was the first e-beam lithography instrument equiped with a laser interferometry. |
| दिनांक | |
| स्रोत | Archives CAMECA |
| लेखक | Jacques Trotel |
| अनुमति (इस चित्र का पुनः उपयोग करना) |
Cameca |
लाइसेंस
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This is a copyrighted image from the CAMECA Archives |
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चित्र का इतिहास
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| दिनांक/समय | थंबनेल | आकार | सदस्य | टिप्पणी | |
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| वर्तमान | ११:३८, २१ अप्रैल २००७ | | १,२३४ × १,५८२ (१२७ KB) | wikimediacommons>EdC | {{Information |Description="Masqueur électronique", developped nearby 1970 by Jacques Trotel, Thomson-CSF. It was the first e-beam lithography instrument equiped with a laser interferometry. |Source=Archives CAMECA |Date=1970 |A |
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